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近幾年大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)有了快速發(fā)展，國(guó)家對(duì)超純水的水質(zhì)也相應(yīng)提出了更高的要求，超純水中所含雜質(zhì)的允許含量越來(lái)越低，同時(shí)需要控制的雜質(zhì)種類也越來(lái)越多。為了更好有效的去除各種雜質(zhì)，需要各種處理手段的綜合運(yùn)用。
電子廠專用純凈水設(shè)備分為三部分：預(yù)處理，初級(jí)處理和拋光精制處理。
1.預(yù)處理系統(tǒng)通常由過濾、殺菌和防氧化工藝組成；
2.初步處理系統(tǒng)主要由反滲透、離子交換器、膜脫氣、紫外設(shè)備等組成；
3.精制處理部分通常包括TOCUv、拋光混床、膜脫氣以及終端超濾裝置。
電子廠專用純凈水設(shè)備的工藝優(yōu)勢(shì):
1.具有一定的靈活性和調(diào)節(jié)余地，以適應(yīng)水量的變化，管理方便、維修簡(jiǎn)單，合理地、充分地考慮操作自動(dòng)化，減少操作勞動(dòng)強(qiáng)度；
2.設(shè)備選型兼顧通用性和先進(jìn)性，運(yùn)行穩(wěn)定可靠、效率高、管理方便、維修維護(hù)工作量少、價(jià)格適中；設(shè)計(jì)美觀、布局合理，與周圍設(shè)施統(tǒng)一協(xié)調(diào)考慮；
3.盡量采取措施減小對(duì)周圍環(huán)境的影響，合理控制噪聲、氣味，妥善處理與處置固體廢棄物，避免二次污染；
4.在系統(tǒng)整體設(shè)計(jì)中引入模塊化概念，將主體處理設(shè)施分成幾個(gè)并列運(yùn)行的處理單元，可根據(jù)生產(chǎn)的實(shí)際情況以及實(shí)際水量的大小靈活運(yùn)行，節(jié)省運(yùn)行費(fèi)用；
5.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，便于安裝和維修，節(jié)約用地。
